供应大型坩埚炉特点

产品介绍真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝。**大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下**加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。 产品属性坩埚炉的技术参数 　　工作温度：≤1100℃  
　　较高温度：1200℃ 　　控温方式：智能化可编程控制 　　升温较**率：20℃/min 　　恒温精度：±1℃ 　　炉门结构：上开式 　　工作电源：AC220V 　　额定功率：3KW 使用方法坩锅炉主要应用： 　
　煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径主要特点坩锅炉主要特点：　　 　
**惨钼铁铬铝合金作为发热元件，可加热到1200℃ 高纯石英杯：205外径x 190内径x 340高mm 　　**不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用。 　　内置30段可编程精密数字温度控制器可控制升降温速率。 工作原理坩埚炉的技术参数 　　工作温度：≤1100℃  
　　较高温度：1200℃ 　　控温方式：智能化可编程控制 　　升温较**率：20℃/min 　　恒温精度：±1℃ 　　炉门结构：上开式 　　工作电源：AC220V 　　额定功率：3KW 故障排除坩锅炉主要应用： 　　
煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径其他说明坩埚炉的技术参数 　　工作温度：≤1100℃  
　　较高温度：1200℃ 　　控温方式：智能化可编程控制 　　升温较**率：20℃/min 　　恒温精度：±1℃ 　　炉门结构：上开式 　　工作电源：AC220V 　　额定功率：3KW 交易说明坩锅炉主要应用： 　　
煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径